News ニュース
News ニュース
2020-10-26  台湾智慧局(特許庁)は意匠の審査基準を修正することを発表(2020.10.26)
台湾智慧局(特許庁)は2020年10月5日に意匠の審査基準を修正すると発表しました。新しい審査基準は2020年11月1日に施行されます。
 
簡単に要点をまとめますと、下記4点が大きく変更となりました。
①六面図及び斜面図の全てを提出する必要がなくなった。
②建築物や内装のデザインは、意匠の保護対象であることを明記。
③請求されていないデザインの範囲について分割出願を許容。
④図像またはGUIデザインの範囲を拡大。
 
ご質問がありましたら、お気軽にご連絡ください。
info@louisipo.com
 
参考:(中国語)
https://www.tipo.gov.tw/tw/cp-85-881881-d8fd4-1.html
 
by 萬國専利商標事務所(Louis International Patent Office)